了解压力 (P)
压力 (P) 表示气体分子撞击表面时
产生的力量大小
要降低压力 (P):
1) 提高抽速 (S)
和/或
2) 降低气载 (Q)
气载 (Q) 是真空系统中所有气体来源
的总和。
来源包括:
• 真空室内的初始气体
• 工艺气体
• 放气
• 扩散
• 真实泄漏
• 虚漏
• 返流
• 渗透
需要真空的原因大致有以下几类:
a) 使粒子在不受干扰的情况下移动一段距离
用于粒子加速器,从 X 射线成像系统到放射性药物的生产,再到用于研究物质基本特性的设备
b) 创造超洁净的表面
这对许多应用而言必不可少,特别是在真空镀膜应用中,此时会将一种材料沉积到另一种材料上(通常形成非常薄的一层)。真空可以确保“目标”表面不存在可能影响沉积材料附着或以其他方式影响性能的污染物。应用示例包括望远镜反射镜和半导体器件
c) 最后,许多工艺在靠近接地组件的地方需要高电压
如果没有真空,这样的高电压无法稳定保持而不发生放电
流导 (C) 对抽速 (S) 的影响:
注:由于各种流导 (C) 限制而得到的降低后的抽速 (S) 称之为有效抽速 (Seff)。
流导 (C) —(气载 (Q) 固定)
流导 (C) —(气载 (Q) 固定)
DE87018754