成分分析

通过灵敏、可靠且稳定的杂质分析提高产量

准确检测半导体制造材料中的杂质对确保元件的质量和产量而言至关重要。随着现代化半导体元件越来越小，杂质对元件速度和收益的潜在负面影响也越来越大，基质的干扰也同样影响着金属检测的有效性。

安捷伦可靠易用的 ICP-MS、ICP-OES 和 FTIR 系统系列突破了高效半导体杂质分析的瓶颈，确保制造商始终能够生产出高品质的各种材料。7900 ICP-MS 和 8800 ICP-MS/MS 拥有卓越的精度，可为痕量金属分析提供业界领先的灵敏度，而 Cary 600 系列和 ExoScan FTIR 系统可对浅表杂质进行有效分析。自动化解决方案还可确保更高的效率和稳定的性能。