실리콘 웨이퍼 분석
실리콘 웨이퍼 제조 과정의 오염물에 대한 정확하고 효율적인 분석
차세대 초고감도 기술을 적용한 애질런트의 기기는 반도체 생산업체들이 생산 공정의 매 단계에서 오염물을 측정하고 최소화할 수 있도록 합니다. 애질런트의 7700 ORS 기술과 업계 선도적인 8800 ICP-MS/MS 기기는 매우 높은 매질의 시료에서도 웨이퍼 제조의 각 단계에서 정밀하고 효율적으로 금속 불순물의 종류, 근원 및 양을 측정할 수 있습니다.
극미량 오염물을 효율적으로 검출하는 것은 생산율을 유지하는 데에 있어서 매우 중요하며, 애질런트의 자동화된 시료 및 데이터 처리 도구는 이를 보장해 줍니다. 화학 분석도 테스트 과정에서 오염 위험을 줄이기 위해 직접적인 절차로 진행합니다. 또한 모든 장비는 경험이 풍부한 엔지니어들이 제공하는 애질런트의 탁월한 실리콘 웨이퍼 제조용 구조 지지을 통해 안정적인 지원을 받습니다.
Ultratrace Analysis of Solar (Photovoltaic) Grade Bulk Silicon by ICP-MS
- PDF/ FOUND IN: APPLICATION NOTES
- 날짜 : 20 Jan 2014
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Characterization of Trace Impurities in Silicon Wafers by High Sensitivity Reaction Cell ICP-MS
- PDF/ FOUND IN: APPLICATION NOTES
- 날짜 : 18 Jan 2006
- 파일 크기 : 85.65 KB
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온라인 VPD-ICP-MS/MS를 이용한 실리콘 웨이퍼의 금속 오염물질 자동 표면 분석
IAS Expert PS VPD와 통합된 Agilent 8900 ICP-QQQ는 웨이퍼의 매일 쉬지 않고 오염 제어에 필요한 감도와 견고성을 약속합니다.
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- 03 Jan 2023
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A Faster, More Accurate Way of Characterizing Cube Beamsplitters Using the Agilent Cary 7000 Universal Measurement Spectrophotometer (UMS)
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- 28 Dec 2022
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Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
A guide to the applications of ICP-MS in the semiconductor industry, including the control of metal contaminants.
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- 01 Jun 2022
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Trace elemental analysis of trichlorosilane by Agilent 7700s/7900 ICP-MS
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Direct analysis of trace metallic impurities in high purity hydrochloric acid by Agilent 7700s/7900 ICP-MS
Illustrates the advanced analytical performance and robustness of the Agilent 7700s/7900 ICP-MS for the direct determination of metallic impurities in high purity concentrated HCl.
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- 09 Oct 2017
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