초순수(Ultrapure Water) 분석
반도체 제조 과정의 정확하고 효율적이며 믿을 수 있는 초순수 분석
반도체 제조 과정에 사용하는 초순수의 오염 수준을 최대한 낮게 유지하는 것은 중요하면서도 어려운 과제입니다. 불순물을 정확하고 효율적으로 검출할 수 있는 정밀한 분석 시스템만이 생산율에
영향을 주지 않고 효과적으로 사용될 수 있습니다.
Agilent 7900 ICP-MS 및 8800 ICP-MS/MS 시스템은 매우 낮은 농도의 검출 수준에 믿을 수 있고 높은 재현성인 분석을 제공합니다. 이 기기들은 또한 다양한 시료 자동화 및 데이터 처리 도구를
갖추고 있어 효율성을 향상시키는 동시에, 실리콘 세척 및 기타 과정에서 경제적인 초순수 모니터링을 가능케 합니다. 모든 장비는 전문 엔지니어들이 제공하는 애질런트의 탁월하고 광범위한 지원
서비스로 관리됩니다.
Basic Performance of the Agilent 7700s ICP-MS for the Analysis of Semiconductor Samples
- PDF/ FOUND IN: APPLICATION NOTES
- 날짜 : 27 Jan 2014
- 파일 크기 : 773.59 KB
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Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing
A guide to the applications of ICP-MS in the semiconductor industry, including the control of metal contaminants.
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- 01 Jun 2022
- 6.68 MB
Ultra-low level determination of phosphorus, sulfur, silicon and chlorine using the Agilent 8900 ICP-QQQ
The performance of the 8900 ICP-QQQ for the analysis of some of the most challenging elements for ICP-MS: phosphorus, sulfur, silicon, and chlorine
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- 08 Apr 2018
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Ultra trace measurement of potassium and other elements in ultrapure water using the Agilent 8800 ICP-QQQ in cool plasma reaction cell mode
The 8800 ICP-QQQ provides improved cool plasma performance combined with unique MS/MS mode reaction cell methodology to achieve a BEC of 30 ppq for K in ultrapure water...
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- 02 Dec 2014
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Ultratrace measurement of calcium in ultrapure water using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
Application note for Ultratrace measurement of calcium in ultrapure water using the Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS
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- 17 Feb 2014
- 1.22 MB
Basic Performance of the Agilent 7700s ICP-MS for the Analysis of Semiconductor Samples
Basic Performance of the Agilent 7700s ICP-MS for the Analysis of Semiconductor Samples
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- 27 Jan 2014
- 773.59 KB
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