基本设计:安捷伦的 ICP-MS 和 ICP-MS/MS 系列仪器在设计上有诸多相似之处,旨在确保安捷伦 ICP-MS/MS 仪器(非半导体配置)能够提供与安捷伦品质出众的单四极杆 ICP-MS 系统同样出色的基质耐受性和稳健性。这些仪器采用高能量等离子体(CeO/Ce 比低至 1%)和超高基质进样 (UHMI) 气溶胶稀释技术,能够耐受总溶解态固体 (TDS) 含量高达 25% 的样品,使其成为常规应用的理想选择。
软件:两类仪器均由 Agilent ICP-MS MassHunter 软件控制,该软件集成了众多实用工具。这些工具及功能有助于方法开发(方法向导、IntelliQuant)、配置(预设方法,包括 EPA 方法)、优化(透镜自动调谐)、数据采集、报告生成和仪器维护 (EMF),显著提升了仪器易用性。
碰撞/反应池 (CRC) 技术:安捷伦 ICP-MS 和 ICP-MS/MS 采用相同的 CRC,即八极杆反应池系统 (ORS4),它可在氦气 (He) 碰撞模式、增强型高能氦气模式(HEHe 模式)或反应池气体模式下运行。氦气模式通过动能歧视 (KED) 和碰撞诱导解离 (CID) 机制,消除了阻碍关键痕量元素准确分析的许多多原子(分子)干扰问题。
He KED 通过在反应池出口处施加能量差,将体积较大的多原子干扰离子与体积更小、迁移性更强的单原子分析物离子分离(体积较大的干扰离子与 He 原子发生碰撞的频率更高,进而损失更多能量)。尽管 He KED 模式可用于消除大部分来自等离子体气体或样品基质的干扰,但在某些情况下仍需要使用 HEHe 或反应池气体,例如硅 (Si)、磷 (P) 和硫 (S) 等元素的痕量测定。此外,He KED 无法解决待测离子面临的同量异位(相同质量)和双电荷离子 (M++) 重叠干扰问题。
不连续进样:安捷伦 AVS MS 附件可提高 ICP-MS 和 ICP-MS/MS 的分析效率,是高通量常规应用的理想选择
安捷伦 ICP-MS 与 ICP-MS/MS 仪器的差异
单离子质量过滤器:安捷伦单四极杆 ICP-MS 仪器通常采用性质温和的反应性气体运行,比如氢气 (H2),以消除部分目标分析物面临的干扰。然而,当向 CRC 中通入反应性更强的气体(例如氧气 (O2) 或氨气 (NH3)),来分析基质复杂且多变的样品时,许多离子将与反应池气体反应,生成相应的反应产物离子。
这些额外生成的多原子离子会干扰其他分析物,非但无法解决原有问题,反而带来了新的干扰。或者,如图 3 所示,在使用 O2 作为反应池气体分析硒 (80Se) 时,分析物在池中形成了 80Se16O+。该产物离子的质荷比 (m/z) 为 96,可以在不受 m/z 为 80 的离子干扰的情况下进行检测。不过,在使用单四极杆 ICP-MS 时,m/z 96 处的干扰离子(Zr、Mo 和 Ru)会导致以 SeO 测得的 Se 结果出现假阳性。
双离子质量过滤器:为应对上述挑战,安捷伦 ICP-MS/MS 系统在 CRC 之前增加了一个单位质量 (1 u) 四极杆质量过滤器 Q1,用于筛选进入反应池的离子,使其与池内反应气发生反应(图 4)。从反应池出来的所有离子再经第二个四极杆 (Q2) 过滤,之后进入检测器。
这种串联质谱 (ICP-MS/ MS) 运行模式,能够准确控制 CRC 中的反应化学过程,使该技术可用于各种样品类型的常规检测。增加一个四极杆还可提高 ICP-MS/MS 的丰度灵敏度 (AS),减少峰尾重叠现象。
ICP-MS/MS 的常规应用
对于大多数常规样品检测,ICP-MS/MS 的运行方式与单四极杆 ICP-MS 颇为相似,在 He KED 模式下,Q1 仅充当离子导轨而非质量过滤器。
然而,对于受到严重干扰的分析物,包括同量异位或 M++ 干扰,Q1 可确保只有特定 m/z 的离子才能进入 CRC,剔除所有其他离子。这种 MS/MS 配置能更精准地控制反应模式下的干扰,从而实现对复杂基质样品的准确测量。
即使是传统上被认为不受干扰的质量数较高的元素(如 Cd 和 Hg),也能从 ICP-MS/MS 技术中获益。镉会受到 MoO 的干扰,汞则会受到 WO 和 WOH 的干扰。许多样品中含有一定量的钼,部分样品甚至含有钨,这会导致分析结果出现偏差。ICP-MS/MS 采用反应性池气体,成功解决了这些干扰问题。
在关于此主题的下一篇文章中,我们将重点介绍 ICP-MS/MS 在常规检测中的应用示例,请务必关注下一期《ICP-MS 期刊》。
